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2009年12月8日
(2009年11月24日 米国発報道発表資料抄訳)
ノベラスシステムズジャパン

ノベラスのPECVD ASHABLE HARD MASK (AHM(tm))がSub-32nmのパターニングを実現

従来のアモルファスカーボン膜に比べ歩留まりを7%改善

ノベラスシステムズ( NSADAQ:NVLS、以下、ノベラス) は、現在業界で使われているアモルファスカーボン・ハードマスクと比べて、25%もエッチ選択性が高いアッシング除去可能なハードマスク(AHM)を開発しました。この高選択性と高透過性(HST)のAHMにノベラスの特許技術であるEdge Bevel Removal (EBR)を組み合わせることで、7%もの歩留まり向上を実現しました。

Sub-32nmのロジックとメモリには高アスペクト比(AR)のパターニングが要求されます。このような先端微細構造において、プラズマ化学気相成長法(PECVD)由来のアモルファスカーボン・ハードマスクは、従来のフォトレジストより高いエッチ選択比と優れた機械的特性を持ち合わせています。さらに、この膜はパターン崩壊やラインベンディングを起こすことなく、より正確にフォトレジストから基盤へのパターン転写を可能にします。これらのアモルファスカーボン・ハードマスクはダブルパターニングにも使われ、コストパフォーマンスに優れた高密度のパターニングを可能にしています。

<図1A>は、550℃で成膜された従来のアモルファスカーボン・ハードマスクのエッチ選択比をノベラスのHST AHMでノーマライズした値を示しています。選択比を高くするために成膜温度を上げることもできますが、一方で膜の透過性を低下させてしまいます。透過性が低下するほど、フォト工程でアライメントがより難しくなります。しかし、ノベラスのAHMは透過性を低下させることなく、高アスペクト比のパターニングに要求される選択比を維持することができます。<図1A>にはまた、エッチ選択比パフォーマンスの典型的な指標であるCD面内均一性(CDU)マップも示されています。高選択比・低エロージョン比のノベラスのHST AHMは、より優れたCD面内均一性を実現し、歩留まり向上に不可欠な高密度で高アスペクト比のパターニング(<図1B>・<図1C>参照)を容易にします。


<図1A、B、C>

ウエハーのエッジでのAHMの厚さは歩留まりに大きな影響を与えます。十分にAHMが成膜されている部分からベアシリコン(すなわち、AHMがすべて除去されている部分)までの膜厚の推移領域は狭いことが望まれます。ノベラスのVECTOR(r) PECVDには、AHMの膜厚推移領域 1mm以下(通常1.2mm~1.5mm)を実現するEBRが搭載されているのが特長です。この急峻な膜厚推移の実現が、2mmエッジ除外に対して、優れたCDコントロールを保証します。(<図2>参照)。またこのEBRモジュールは、VECTORのプラットホームにそのまま搭載可能であるため、ウエハーベベル部クリーン用として、追加の装置等は必要ありません。さらに、AHMは成膜チャンバーの外で除去されるので、他のin-situエッジ制御技術と比べて、より良いプロセスとパーティクルの制御が可能となります。


<図2>

歩留まり向上に加えて、ノベラスのHST AHM膜は工場の生産現場でも広いプロセスマージンを提供します。高温で成膜された従来のアモルファスカーボン・ハードマスクは、比較的高い吸湿性を示しますが、ノベラスのPECVD VECTOR プラットホームのMulti-station sequential deposition (MSSD)機構では、その特徴であるワンパスの多層構造により優れた気密性を実現します。従来の高温処理されたアモルファスカーボン・ハードマスクとノベラスのHST AHM膜の気密性試験の結果を図3に示します。


<図3>

ノベラスPECVD business unitの 上級副社長であるKevin Jenningsは次のように述べています。「ノベラスのHST AHM膜は、Sub-32nmデバイスに必要とされる高密度・高アスペクト比のパターニングを実現します。ノベラスのHST AHMは 、VECTORプラットホームで証明された生産性と共に、低コストをも実現する最先端デバイスへのソリューションです。」

ノベラスの光学膜についての詳細は、下記のURLをご参照下さい。 www.novellustechnews.com

ノベラスのPECVDテクノロジーについて

ハードマスクとダブルパターニングのアプリケーションに対して、ノベラスはAHMのアモルファスカーボン・ハードマスクをVECTOR PECVDのプラットホームにて提供します。ノベラスのAHM膜では、従来の同じ組成比の光学膜に比べ、エッチ選択性を25%向上させることができます。さらにVECTORシステム特有のEdge Bevel Removal (EBR)テクノロジーを組み合わせることで、パターニング後の歩留まりを7%改善することができます。

NovellusおよびVECTORは登録商標です。AHMはNovellus Systems, Incの商標です。


ノベラスについて:

Novellus Systems, Inc. (Nasdaq: NVLS) は、グローバル半導体産業において先進のプロセスを提案するリーディングカンパニーです。ノベラスの製品は、信頼された生産性に裏付けされた革新的なテクノロジーを提供することにより、お客様に“価値”を提供します。S&P 500 companyであるノベラスは、米国カリフォルニア州サンノゼに本社をもち、世界中に拠点を展開しています。ノベラスについての詳細は公式サイトをご覧下さい。

www.novellus.co.jp

■ノベラスシステムズジャパンのプレスリリース一覧


2010-08-24 08:00:00 ノベラスシステムズジャパン
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2010-02-16 13:00:00 ノベラスシステムズジャパン
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GLOBALFOUNDRIESに認められた、業界をリードする量産対応絶縁膜成膜装置

2010-01-29 00:00:00 ノベラスシステムズジャパン
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